商丘金常來金屬制品有限公司
經(jīng)營模式:生產(chǎn)加工
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在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。
PVD真空鍍層按照膜層應用來分類可分為裝飾膜層和硬質(zhì)膜層:
裝飾膜層可以改善工件外觀裝飾性能和色澤同時使工件更耐磨耐腐蝕;硬質(zhì)膜層用于提高工件的表面硬度和耐磨性,降低表面的摩擦系數(shù),提高工件的使用壽命。
濺射鍍膜基本原理:充(Ar)氣的真空條件下,使氣進行輝光放電,這時(Ar)原子電離成離子(Ar ),離子在電場力的作用下,加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材,靶材會被濺射出來而沉積到工件表面。 濺射鍍膜中的入射離子,一般采用輝光放電獲得,在l0-2Pa~10Pa范圍,所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中,易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞,使運動方向隨機,沉積的膜易于均勻。
帶正電荷的蒸發(fā)料離子,在陰極吸引下,隨同離子一同沖向工件,當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時,則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。這就是離子鍍的簡單作用過程。
PVD技術(shù)四個工藝步驟
(1)清洗工件:接通直流電源,氣進行輝光放電為離子,離子轟擊工件表面,工件表層粒子和臟物被轟濺拋出;
(2)鍍料的氣化:即通入交流電后,使鍍料蒸發(fā)氣化。
高經(jīng)理先生
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